簡(jiǎn)要描述：納米超細(xì)研磨分散機(jī)NKD2000系列研磨分散設(shè)備是CIK（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客
產(chǎn)品型號(hào)： NKD2000
所屬分類：化工級(jí)研磨分散機(jī)
更新時(shí)間：2024-08-24
納米超細(xì)研磨分散機(jī)，超細(xì)研磨機(jī)，超細(xì)分散機(jī)，超細(xì)研磨分散設(shè)備，德國(guó)研磨分散機(jī)，高速研磨分散機(jī)，研磨分散機(jī)是一款集研磨和分散一體化的設(shè)備，是一項(xiàng)新的技術(shù)革新。研磨分散機(jī)是將膠體磨（錐體磨）+高剪切分散機(jī)一體化的設(shè)備，先研磨后分散，物料研磨后又瞬間進(jìn)行分散，避免了物料的二次團(tuán)聚。
膠體磨和分散機(jī)的一體化設(shè)計(jì)相對(duì)于膠體磨和分散機(jī)的串聯(lián)而言更具優(yōu)勢(shì)。串聯(lián)的話存在時(shí)間差，當(dāng)物料通過膠體磨之后，磨細(xì)后物料會(huì)出現(xiàn)抱團(tuán)的現(xiàn)象，再經(jīng)過分散機(jī)分散，效果不是很好。而NKD超細(xì)研磨分散機(jī)的話，物料磨細(xì)后，瞬間又通過分散工作組，進(jìn)行分散，在物料還未抱團(tuán)之前，就進(jìn)行了分散，一個(gè)瞬間作用，效果會(huì)好很多。
當(dāng)所處理的物料要達(dá)到非常細(xì)的程度時(shí)候，對(duì)于設(shè)備的要求就會(huì)非常的高。而從設(shè)備角度來(lái)考慮的話，能夠達(dá)到超細(xì)的效果，要具備以下條件：
1、*的剪切力，NKD2000系列研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，線速度為44m/s，是普通設(shè)備的4-5倍。
2、高精密度的定轉(zhuǎn)子，超細(xì)研磨分散機(jī)的定轉(zhuǎn)子分為兩級(jí)，一級(jí)為膠體磨磨頭，采用三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)，磨頭的溝槽的深度角度都符合流體力學(xué)的設(shè)計(jì)。第二級(jí)是分散頭，CIK分散頭有六種不同的規(guī)格，從粗到細(xì)，越來(lái)越密，分散效果佳。
3、機(jī)械密封，超細(xì)的效果取決于高的轉(zhuǎn)速，而轉(zhuǎn)速越高機(jī)械密封的發(fā)熱量就會(huì)越大，設(shè)備的機(jī)械密封是否能夠耐的住這么高的轉(zhuǎn)速，國(guó)內(nèi)大多數(shù)廠家的機(jī)械密封是無(wú)法做到的，而CIK研磨分散機(jī)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并配有機(jī)封冷卻系統(tǒng)，可以承受超高的轉(zhuǎn)速，穩(wěn)定性高。
納米超細(xì)研磨分散機(jī)NKD2000系列研磨分散設(shè)備是CIK（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變跟為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
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